Innere Priorität aus Gebrauchsmuster vs. Neuheitsschonfrist

Marc N. Zeichen

*** KT-HERO ***
Hallo Forum,

kurz folgender Sachverhalt: Ich kann ja beispielsweise ein deutsches Gebrauchsmuster anmelden, wobei ich in den Genuss der Neuheitsschonfrist komme.

Mit anderen Worten kann ich mein Produkt beispielsweise heute auf einer Messe ausstellen, aber erst in 2 Monaten zu diesem Produkt ein Gebrauchsmuster anmelden.

Was passiert nun aber, wenn ich daraufhin die innere Priorität in Anspruch nehmen und eine Patentanmeldung auf die Priorität des Gebrauchsmuster stützen will?

Mein Gefühl sagt mir ja: "Pech gehabt" - die Ausstellung auf der Messe ist natürlich neuheitsschädlich für die Patentanmeldung, nur das Gebrauchsmuster ist gültig.

Stimmt's, und falls ja, wo steht's [im Gesetz ja offenbar nicht]?

Danke schonmal für eure Tipps,

Marc.
 
G

grond

Guest
Marc N. Zeichen schrieb:
Mein Gefühl sagt mir ja: "Pech gehabt" - die Ausstellung auf der Messe ist natürlich neuheitsschädlich für die Patentanmeldung, nur das Gebrauchsmuster ist gültig.

Stimmt's, und falls ja, wo steht's [im Gesetz ja offenbar nicht]?
Klar steht es im Gesetz:

PatG §3 Abs. 1...

Interessant ist natürlich, dass einem auch in den USA eine Neuheitsschonfrist (1 Jahr) für Patentanmeldungen zusteht. Bei einer Prioinanspruchnahme aus einem Gebrauchsmuster riecht ein deutscher Anwalt wohl den Braten, wurde die prioritätsbegründende Anmeldung aber in den USA eingereicht, eher nicht... :)
 

Marc N. Zeichen

*** KT-HERO ***
Danke, grond,

grond schrieb:
Klar steht es im Gesetz:

PatG §3 Abs. 1...
;) scho' klar, die Stelle war mir auch schon aufgefallen ;)

Man wird halt nur im Gesetz leider nicht auf diese Stolperfalle mit dem Gebrauchsmuster hingewiesen ;)

Dann trog mich mein Gefühl also nicht...
 
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